价格：面议
沈阳鹏程真空技术有限责任公司
联系人：董顺
电话：13898863716
地址：沈阳市沈河区凌云街35号
产品规格：
产品数量：
包装说明：
关 键 词：脉冲激光沉积装置报价,脉冲激光沉积装置厂家,脉冲激光沉积装置多少钱,脉冲激光沉积装置公司,脉冲激光沉积装置价格
发布时间：2021-08-24
脉冲激光沉积简介
随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，脉冲激光沉积装置厂家，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，而且在微电子、光电子、**导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属**化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性，脉冲激光沉积装置报价，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展，特别是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光沉积（PLD）技术的特点逐渐被人们认识和接受
以上就是关于脉冲激光沉积的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！
脉冲激光沉积系统的配置介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。
1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;
2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差lt;3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;
3.基板加热电源，高到1200度;
4.**高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度lt;5e-8 pa;
5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度lt;5e-5 pa;
6.排气系统:分子泵和干式机械泵;
7.阀门: 采用**高真空挡板阀;
8.真空检测:真空计;
9.气路两套: 采用气体流量计控制;
10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED;
11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;
12.各种电流导入及测温端子;
13.其它各种构造:各种**高真空位移台，磁力传输杆，脉冲激光沉积装置公司，**高真空法兰，脉冲激光沉积装置，**高真空密封垫圈，**高真空用波纹管等;
脉冲激光沉积简介
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
【设备主要用途】
PLD450A型脉冲激光沉积设备采用PLD脉冲激光沉积技术，用于制备高温**导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种**—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
【设备优点】
设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。
【设备主要组成】
设备由沉积腔室（单室球形或圆筒形）、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
