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退火炉是一种用于制作半导体器材的工艺，它包括加热几个半导体晶片以影响其电功用。热处理是为不同的效能而规划的。硅片可以加热以激起掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶圆-基板界面，从而改动细密堆积的薄膜，光亮退火炉，恢复生长的薄膜，恢复注入的损处，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜转移到硅片。退火炉分为电加热炉、燃煤退火炉、燃油退火炉、退火炉和气体退火炉，光亮退火炉原理，其间自备煤气发生炉生产的气体退火炉使用较为广。
光亮退火炉为中等工业窑炉，呈长条形。车辆厂锻冶车间车轴连续光亮退火炉原选用燃油亚高速烧嘴，首要用于火车车轴加热铸造后进行热处理，光亮退火炉价格，是车辆厂锻冶车间首要设备之一。
长处
1、使用方便，习惯生产环境；
2、炉膛内升温敏捷且各段温度均匀；
3、炉体大修期确保五年以上，且炉门、烧嘴等易损部件维修方便。
缺点
1、设备耗油量大，效率低，环境污染严重；
2、由推钢轨道等引起的毛病多，维修困难，影响了生产；
3、自动化控制程度低，废品率高，一般在12%摆布。
更是因为这一原因，因此矿热炉的当然功率要素难以做到0.85之上，绝大部分的火炉的当然功率要素都会0.7~0.8中心，较低的功率要素不光使变电器的功率降低，消耗很多的瞎忙，且被电力工程一部分另收附加的电力工程罚款，另外因为电级的人工干预及其堆积的加工工艺，形成三两色的电力工程不平衡添加，不平衡度可以做到百分之20之上，这形成冶炼厂功率的不高，水电费提高，因此提高短网的功率要素，减少电力网不平衡就变成减少耗能，提高冶炼厂功率的合理方法。
