厦门激光半导体氨逃逸设备
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关 键 词:厦门激光半导体氨逃逸设备
行 业:仪器仪表 分析仪器 红外分析仪
发布时间:2021-04-18
TR-9300N氨逃逸在线监测系统采用高温伴热抽取技术,对脱硝过程中的逃逸氨进行连续在线监测,系统由取样及传输单元、预处理及控制单元、分析单元三部分构成,主要应用于众多工业领域气体排放监测和过程控制,例如:燃煤发电厂、铝厂、钢铁厂、冶炼厂、垃圾发电站、水泥厂和化工厂、玻璃厂等。
分析仪采用了可调谐激光吸收光谱技术(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,简称TDLAS)的原理,可测量过程气体成分中的特定气体的浓度,包括NH3、H2S、HCL、HF、CO等。该系统具有灵敏度高、响应速度快、不受背景气体干扰、非接触式光学测量等特点,为实时准确地反映逃逸氨的变化提供了可靠保证。
氨逃逸在线监测系统特点:
1、样品从采样到分析全程高温伴热,过程无冷点,保证数据不失真;
2、系统一体化设计,安装维护方便;
3、智能化控制系统,采样探头自动吹扫,高精度控制温度,温度超限自动报警,全程分析过程无人值守24H工作;
4、可灵活选配NO分析模块,实现NH3/NO同时测量,提供更科学有效的脱硫脱硝控制数据;
5、采用多探头平均分布方式,准确测量烟道内NH3/NO的平均含量,避免烟道口径过大时带来的测量误差;
6、系统可实现多通道同时测量功能,减少用户设备采购成本。
氨逃逸在线监测系统的优势:
1、采用高温抽取采样测量,与原位对穿式相比,具有不受烟道内粉尘、温度、压力波动的影响,可实现自动校准等优势;
2、整个气体流路200℃高温伴热,并定期自动反吹,避免高粉尘和铵盐结晶塞过滤器和管道 ;
3、结果简单、紧凑、无运动部件,确保良好的运行稳定性;
4、在位安装,伴热管线1—2米长,气体室多次折返光路,确保探头到气体室口的容积小于0.5L,有效避免强吸附性影响响应时间。
可调谐半导体激光光谱吸收技术TDLAS本质上是一种光谱吸收技术,通过分析激光被气体分子的选择性吸收来获得气体的浓度。它与传统红外光谱吸收技术的不同之处在于,半导体激光光谱宽度远小于气体吸收谱线的展宽,如图2。因此,半导体激光吸收光谱技术是一种高分辨率的光谱吸收技术。系统采用特定波长的激光束穿过被测气体,激光强度的衰减与气体的浓度满足朗伯. 比尔定理,因此可以通过检测激光强度的衰减信息分析获得被测气体的浓度。采用半导体激光吸收光谱技术的激体分析仪可从原理上抗背景气体的干扰, 测量结果可靠性高。 其主要技术特点如下:
不受背景气体的影响
传统非色散红外光谱吸收技术采用的光源谱带很宽,其谱宽范围内除了被测气体的吸收谱线外, 还有很多基他背景气体的吸收谱线。 因此,光源发出的光除了被待测气体的多条谱线吸收外还被一些背景气体的吸收,从而 导致测量的不准确性。而半导体激光吸收光谱技 术中使用的半 导体激 光的谱宽小于0 . 001 nm ,远小于被测气体一条吸收谱线的谱宽, 如图 3 所示。同时在选择该吸收谱线时,就保证在所选吸收谱线频率附近约10倍谱线宽度范围内无测量环境中背景气体组分的吸收谱线,从而避免这些背景气体组分对被测气体的交叉吸收干扰,保证测量的准确性。
不受粉尘干扰
激体分析仪通过调制激光器的频率使之周期性地扫描被测气体的吸收谱线, 激光频率的扫描范围被设置为大于被测气体吸收谱线的宽度,从而在一次扫描中包含有不被气体吸收谱线衰减的黄绿区(1 区)和被气体吸收谱线衰减的红(2 区)。 从 1 区得到的测量信号包含粉尘和视窗污染的透过率,从2区得到的测量信号除包含粉尘和视窗污染的透过率 还包含被气体吸收的光强衰减。因此,通过在一个激光频率扫描周期内对 1 区和 2 区的同时测量可以准确获得被气体吸收衰减掉的透光率,从而不受粉尘及视窗污染产生光强衰减对气体测量浓度的影响。
质量保证体系承诺
为了保证设备质量特作出以下承诺:
1)严格按照合同及技术协议的要求,提供符合设计标准、质量合格的产品。
2)严格检查和控制原材料、元器件、配件和附件的质量。
3)保证所供设备加工工艺完善,检测手段完备,产品绝不带缺陷出厂。
4)对供货质量、设备性能、技术接口及服务等方面问题负全部责任。
5)愿意接受需方委派的监造人员来厂监督并为监造人员提供方便。
6)在安装和试运过程中,设备出现质量问题,本着先处理问题再分清责任,一切以满足工程进度需要为准则。
7)设备出厂前将按照国标或技术协议的约定进行严格的出厂试验,确保试验指标达到设计标准或技术协议的规定要求。
8)为所提供的设备在制造、运输、装卸过程中投保,一旦发生意外将按用户要求对所供设备尽快进行免费更换、修理,直到用户满意为准。
9)在开箱过程中入发现缺件及其它原因引起的零部件丢失,我方尽快免费补齐所缺零部件,在设备的安装调试过程中以及今后在设备使用中发现的质量问题,如属我方原因,我方将承担责任。