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关 键 词：沈阳单晶硅片研磨抛光微粉
行 业：超硬材料 超硬制品 研磨材料
发布时间：2021-01-22
我司主要生产：半导体研磨用MCA平板状氧化铝微粉，低纳系列a-氧化铝，陶瓷用a-氧化铝，耐火材料用a-氧化铝、蓝宝石，不锈钢抛光用a-氧化铝、低温氧化铝细粉等系列产品。
平板氧化铝可以用于无机填充剂， 作为填充剂是平板状氧化铝早的应用，它被成功地用作聚合物的填料，以增强其热导率。 氧化铝的热导率比有机聚合物高很多，在聚合物中添加一定量的平板状氧化铝，就可以形成氧化铝网络。该网络能够把大部分热量传出，因此用这种聚合物一陶瓷复合材料制备的电子元件的寿命可以提高，平板状氧化铝的直径越大，所形成网络的节点越少，导热效果就越好。
MCA平板状氧化铝抛光研磨微粉性能指标
粒度分布表 单位微米（μm）
产品名称 dv-0值 dv-3值 dv-50值 dv-94值
MCA40 <.6 39-44.6 27.7-31.7 18-20
MCA35 <.2 35.4-39.8 23.8-27.2 15-17
MCA30 <50.4 28.1-32.3 19.2-22.3 13.4-15.6
MCA25 <40.1 24.4-28.2 16.1-18.7 9.6-11.2
MCA20 <32.0 20.9-24.1 13.1-15.3 8.2-9.8
MCA15 <25.2 14.8-17.2 9.4-11 5.8-6.8
MCA12 <20.3 11.8-13.8 7.6-8.8 4.5-5.3
MCA09 <16.3 8.9-10.5 5.9-6.9 3.3-3.9
MCA05 <12.5 6.6-7.8 4.3-5.1 2.55-3.05
MCA03 <10.0 4.8-5.6 2.8-3.4 1.5-2.1
平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:MCA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、水晶、石英玻璃、硬质玻璃、光学玻璃、液晶显示器（LCD）玻璃基板、压电石英晶体、化合物半导体材料、精密陶瓷材料、轴承球、衬、蓝宝石，磁性材料等。同时它还可做烧结陶瓷原料、高温涂料(油漆,密封胶,化妆品)的填充材料
化学指标
AL2O3 SiO2 Fe2O3 Na2O
>99.0 <0.2 <0.1 <1
晶片在研磨加工过程中，基本的工艺参数是：晶片表面所受到的来自磨板的压力、磨板的转速、研磨剂浓度和，磨料的硬度和颗粒尺寸等。表征研磨晶片质量的参数主要有：厚度、总厚度偏差、平行度或锥度、表面粗糙度以及有无划伤等。
