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水基清洗在半导体芯片封装业内得到越来越广泛的应用,取代原来熟知的溶剂型清洗方式,从而获得了安全、环保、清洁的工作环境等等。与溶剂型清洗剂清洗精密组件和器件不同,水基清洗剂在业内的认知度还不是很高,掌握度还不是很到位,在此为了给大家提供更好的参考,列举了水基清洗制程所需要考虑的几方面重要因素W3110水基清洗剂处理铜、铝,特别是镍等敏感材料时确保了的材料兼容性,除金属外对各种保护膜也有很好的兼容性。清洗液非常低的表面张力能够有效清除元器件底部细小间隙中的残留物,并能够轻易的被去离子水漂洗干净。W3110是一款浓缩液水基清洗剂,可根据残留物的可清洗难易程度,按不同比例进行稀释后使用。稀释液无闪点,其配方中不含任何卤素成分且气味清淡。本产品满足环保规范标准:ROHS\REACH\HF\索尼SS-00259。经第三方认证机构—***检测验证。W3200水基清洗剂是一款常规液,应用浓度为**,配方温和,PH值为中性,因此具有的材料兼容性,特别不会对芯片表面的钝化层造成影响。具有无卤环保,不容易起泡,气味清淡,清洗负载能力高,可过滤性好,具有**长使用寿命,使用安全、成本低等特点。材料安全环保,不含VOC成分,完全满足VOC排放的相关法规要求,创造安全环保的作业环境,**员工身心健康。可较大提高工作效率,降低生产成本。本产品满足环保规范标准:ROHS\REACH\HF\索尼SS-00259。经第三方认证机构—***检测验证。SIP系统级封装清洗:POP堆叠芯片/Sip系统级封装在mm级别间距进行焊接,助焊剂作用后留下的活性剂等吸湿性物质,较小的层间距如存有少量的吸湿性活性剂足以占据相对较大的芯片空间,影响芯片可靠性。要将有限的空间里将残留物带离清除,清洗剂需要具备较低的表面张力渗入层间芯片,达到将残留带离的目的。合明科技研发的清洗剂具有的渗入能力,以确保芯片间残留活性剂被彻底清除。封装器件残留物清洗的重要性目前5G通讯和新能源汽车正进行得如火如荼,而功率器件及半导体芯片正是其核心元器件。为了确保功率器件和半导体芯片的品质和高可靠性,在封装前需要引入清洗工序和使用清洗剂。