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新技术，新可能 使用光谱共焦位移传感器的测量精度可以达到纳米级别。光谱共焦位移传感器的测量技术，可以得到超高分辨率。纳米级分辨率源于上述经过特殊处理得到的加长光谱范围。由于采用检测焦点的颜色，得到距离信息，光谱共焦位移传感器可以采用非常小的测量光斑，从而允许测量非常小的被测物体。这也意味着，即使被测表面有非常轻微的划痕，也逃不过光谱共焦位移传感器的眼睛。 由于光谱共焦位移传感器的光路非常紧凑和集中，使其非常适合测量钻孔结构。而其他测量方式，如激光三角反射式测量，对于小孔往往无能为力，因为小孔形成的阴影会遮挡反射光的光路，无法进行测量。针对这种小孔测量任务，ERT微型光谱共焦传感器探头。这种探头拥有仅6mm的探头直径，可以探入小孔内部进行测量。 另一种非常适合光谱共焦传感器的应用是测 量多层透明材料的厚度。与其他测量方法不同，光谱共焦传感器在测量这种物体时，仅需要一支探头就可以完成测量。测量被测物体前端面和后端面的反射光，从而得到层厚信息。由于测量只使用白光，无需额外附加激光安全措施。由于探头本身不含有任何电路，光谱共焦位移传感器探头还可以被用于有防爆要求的环境或者有电磁干扰要求的环境。而控制器可以被放置于安全距离以外。允许长50m的光纤连接探头和控制器。但是，需要禁止在光路上存在遮挡物或小颗粒，这会影响测量精度，甚至使测量变得不可完成。由于采用的是光学测量方法，探头到被测物体的距离也有一定限制。光谱共焦位移传感器的共焦原理的优点： 全息性：理论上每一束返回光谱分析仪的光线都用它的波长携带了距离信息，部分光被遮挡影响小。 无阴影效应：光从四面八方照射到样品，激光原理一个方向被遮挡无法测量的区域，共焦更容易解决。 光谱共焦位移传感器可以测量各种表面：镜面、弯曲或倾斜的镜面、粗糙面、透明、液滴表面等的测量都变得容易。 光谱共焦位移传感器的高分辨率：理论上波长可以无限细分，理想镜头具有无限分辨率。 光谱共焦位移传感器的温度稳定性好：镜头本身不发热，温度漂移小。对于微米以及亚微米级的测量，温度稳定是很关键的。 自动聚焦：在量程范围内，被测物的位置上下变动时都有相应的波长的光聚焦到物体表面。 光谱共焦位移传感器的横向分辨率高：测量光斑小，而且总是在焦点上，能分辨被测物上的微小轮廓变化。 模块化小型化：镜头和解码部分可以通过光纤连接，传输距离远，镜头可以做得很小。 光谱共焦位移传感器的调频抗干扰：波长是调频信号，对光强变化等调幅干扰不敏感。光纤对电磁干扰、雷电浪涌不敏感。 透明材料厚度测量：当被测物透明且有两个表面，就会有两个波长的光返回得到厚度值。 光谱共焦位移传感器的安全性高：长寿命的LED光源，微小功率的白光，比激光对人眼更安全，不受限于激光危害等级。 光谱共焦位移传感器高防护：控制器高防护等级，光纤可提供不锈钢外套版本，防虫害鼠咬。 光谱共焦位移传感器维护和服务：模块化光源，一分钟快速更换。国内技术和配套支持，保修、维护、校准方便。ERT光谱共焦位移传感器 CCS的具体应用微位移、微形变高精度测量超高线性度，可以作为光谱共焦位移传感器的标定使用通过长度测量可以测量计算难以获取的微小应变 纯光学测头，不会受到强磁干扰，无温度散发，可以在真空中使用 光谱共焦位移传感器的在线检测光谱共焦位移传感器的高测量速度和开放的接口，可以应用于生产线相关的检测或控制系统光谱共焦位移传感器的色散原理具有超高的耐表面性，高光洁表面也可以稳定检测侧视测量，可以测量小直径7mm的微孔侧壁形貌 光谱共焦位移传感器的测振计高速的测量频率和纳米级的分辨率，可以应用在物体的振动测量 光谱共焦位移传感器的厚度测量独创的色散共焦成像原理可以测量透明材料的厚度，具有极高的精确度 光谱共焦位移传感器的液位控制非接触式测量，可以对液位进行检测和测量 光谱共焦位移传感器的表面形貌扫描 符合新的ISO25178规定，能够测量几纳米以下表面粗糙度 非接触式粗糙度测量，对表面没有任何影响连接三维扫描设备，能够实现复杂表面的亚微米级精度的2D和3D测量光谱共焦位移传感器具有超强的测量能力，可以稳定的测量任何材质（如，镜面、玻璃、不锈钢、白色陶瓷、高光金属、基板等）无论什么表面均可在1μm内稳定测量。即使多种材质存在，用同一安装方式光谱共焦位移传感器也可以稳定测量。光谱共焦位移传感器具有超强的角度特性，可测倾角87°，由于其同轴共焦原理，所以无像差干扰问题，即使被测物有过大倾角也不会影响测量精度。镜面、透明、半透明体表面也可以有超强的角度特性，使用光谱共焦位移传感器，无需严格的角度调整就可以进行高精度测量。即使被测物在运动过程中的跳动也不会对测量造成过大的影响。对于透明体内测激光切割的定位，光谱共焦位移传感起可一通过单点定位到对应的位置。ERT光谱共焦位移传感器在光刻机中的应用 光刻机的生产集中了光学，机械制造，电子信息，软件工程等多种精密性和高技术性科学，能够生产光刻机的厂商也不多。目前，全球市场上能够实现大规模工业化 生产的高端投影式光刻机设备厂商有ASML，Nikon，Canon，其中ASML以良好的技术优势占据了高端光刻机市场的60%以上份额，设备的价格折 合人民币在1000万元以上。而科研和生产线用的中端和低端光刻机品牌有德国SUSS,美国MYCRO NXQ等国外品牌和韩国台湾品牌，人民币价格分布在几十万至几百万之间。 光刻机是将集成电路等电路图型投影到不同基片表面的设备。在半导体集成电路，半导体封装，平板显示器如LED屏幕，等离子屏幕，以及太阳能电池等生产中是工艺的核心设备。其制作难度高，精度要求严格，密集高端技术的重要设备 光刻工艺流程: 包括掩膜台系统、掩膜输送系统、投影物镜系统、硅片传输系统、调平调焦系统以及工件台系统在内的诸多机构均需要极高的定位精度、快速的测量频率和稳定的测量结果。ERT公司精密光谱共焦位移传感器,因其出众的产品性能，一直被广泛应用于光刻机的生产制造环节。 ERT公司提供的光谱共焦位移传感器，根据客户实际使用需求量身定制，满足客户对扫描频率，精度，同步和外形尺寸等一系列特殊要求。目前已经被广泛使用在国际高端光刻机设备中，用于核心部件的定位和调整。 作为集成电路产业的核心装备，有人称光刻机为“人类精密复杂的机器”。 日前，清华大学召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会，专家组对项目任务完成情况予以高度评价，并一致同意该项目通过验收。 工件台系统是光刻机的重要子系统，工件台系统的运行速度、加速度、系统稳定性和系统的定位建立时间对光刻机的生产精度和效率起着至关重要的作用。本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收，标志中国在双工件台系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一部分，距离打破ASML的技术垄断还有很长的路要走。 这次会议由国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（核高基02专项）实施管理办公室组织召开，清华大学副校长薛其坤院士出席。 中外光刻机的巨大差距 光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。 目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经占据了高达80%的市场份额，垄断了高端光刻机市场——先进的EUV光刻机售价曾高达1亿美元一台，且全球仅仅ASML能够生产。Intel、台积电、三星都是它的股东，重金供养ASML，并且有技术人员驻厂，Intel、三星的14nm光刻机都是买自ASML，格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自ASML。 相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸，处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大……国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。 这不仅使国内晶圆厂要耗费巨资购买设备，对产业发展和自主技术的成长也带来很大不利影响——ASML在向国内晶圆厂出售光刻机时有保留条款，那就是禁止用ASML出售给国内的光刻机给国内自主CPU做代工——只要中芯国际、华力微等晶圆厂采购的ASML光刻机，虽然不影响给ARM芯片做代工，但却不可能给龙芯、申威等自主CPU做代工、商业化量产。即便是用于科研和国防领域的小批量生产，也存在一定风险——采用陶瓷加固封装、专供军用的龙芯3A1500和在党政军市场使用的龙芯3A2000，只能是小批量生产，而且在宣传上 也只能含糊其辞的说明是境内流片……这很大程度上影响了自主技术和中国集成电路产业的发展。 光刻机工作原理和组成 光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。东莞蓝海ERT光谱共焦位移传感器将很好地解决光刻机的生产制造环节。
