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东莞市蓝海精密检测设备科技有限公司
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东莞蓝海ERT多通道光谱共焦位移传感器 光谱共焦位移传感器多路复用传感器特点： 有2路CCS PRIMA2或4路通道CCS PRIMA4 光谱共焦位移传感器供选择; 高采样频率可达2000HZ； 光谱共焦位移传感器多路复用通道：同时可以把所有传感器连接到控制器上，但一次只能有一个在使用，通道切换时间<400ms; 光谱共焦位移传感器的双通道传感器1、表中给出的数值是典型值，LHCLO，LHCL2，LHCL3，LHCL4有±3%的偏差；LHCL1，LHCL5，LHCL6有±6%的偏差；2、大可测倾角是指针对镜面反射表面时的极限角度值。漫反射表面的大可测倾角可达87;3、在量程中间位置时的光斑尺寸，靠量程近端光斑更小，靠量程远端光斑更大，从中心分别到近端远端差异10%左右； 4、光度收集率是指由不同的测头测量同一样品收集的能量，是相对单位量，此表中的数值为典型值。测量高度反射的样品时，选择低光度收集率的型号，为了 避免饱和，测量扩散或低反射的样品时，选择具有高光度收集率型号，以避免一个非常低的信号与噪声比例； 5、轴向分辨率RMS是对静止样品测得的噪声电平。在量程的中心，以佳的速率进行测量，内部的平均分别设定为1-10。此参数为校准后立即测量，并对应交付每个传感器的校准证书； 6、精度是由1nm精度的编码器做比较校准，由所述传感器测量距离时，在整个测量范围内的大误差。使用以下设置：自动适应LED模式，优的速度，倾角为0。，内部平均=测量值/10。此参数为校准后立即测量，并*每个传感器的校准证书交付； 7、小可测量的Ra的精度取决于样品的恃性，表中所给的值是典型的； 8、在佳的速度下，测量范围的中心，测量的典型值，不加平均。折射率=1.5个样本（测量空气间隙应除以1 5的厚度时）； 9、可测半径为测头直径加工作距离。注：以上光谱共焦位移传感器的参数如有变化，恕不另行通知。光谱共焦位移传感器的测量法是利用波长信息测量距离的。 由光谱共焦位移传感器的光源射出一束宽光谱的复色光（呈白色），通过色散镜头发生光谱色散，形成不同波长的单色光。每一个波长的焦点都对应一个距离值。 测量光射到物体表面被反射回来，只有满足共焦条件的单色光，可以通过小孔被光谱仪感测到。通过计算被感测到的焦点的波长，换算获得距离值。光谱共焦位移传感器的光谱共焦原理可以保证即使被测物存在倾斜或者翘曲，也可以进行高精度的测量，测量点不会改变。ERT光谱共焦位移传感器在光刻机中的应用 光刻机的生产集中了光学，机械制造，电子信息，软件工程等多种精密性和高技术性科学，能够生产光刻机的厂商也不多。目前，**市场上能够实现大规模工业化 生产的高端投影式光刻机设备厂商有ASML，Nikon，Canon，其中ASML以良好的技术优势占据了高端光刻机市场的60%以上份额，设备的价格折 合人民币在1000万元以上。而科研和生产线用的中端和低端光刻机品牌有德国SUSS,美国MYCRO NXQ等国外品牌和韩国闽台品牌，人民币价格分布在几十万至几百万之间。 光刻机是将集成电路等电路图型投影到不同基片表面的设备。在半导体集成电路，半导体封装，平板显示器如LED屏幕，等离子屏幕，以及太阳能电池等生产中是工艺的核心设备。其制作难度高，精度要求严格，密集高端技术的重要设备 光刻工艺流程: 包括掩膜台系统、掩膜输送系统、投影物镜系统、硅片传输系统、调平调焦系统以及工件台系统在内的诸多机构均需要较高的定位精度、快速的测量频率和稳定的测量结果。ERT公司精密光谱共焦位移传感器,因其出众的产品性能，一直被广泛应用于光刻机的生产制造环节。 ERT公司提供的光谱共焦位移传感器，根据客户实际使用需求量身定制，满足客户对扫描频率，精度，同步和外形尺寸等一系列特殊要求。目前已经被广泛使用在国际高端光刻机设备中，用于核心部件的定位和调整。 作为集成电路产业的核心装备，有人称光刻机为“人类精密复杂的机器”。 日前，清华大学召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会，*组对项目任务完成情况予以高度评价，并一致同意该项目通过验收。 工件台系统是光刻机的重要子系统，工件台系统的运行速度、加速度、系统稳定性和系统的定位建立时间对光刻机的生产精度和效率起着至关重要的作用。本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收，标志中国在双工件台系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一部分，距离打破ASML的技术垄断还有很长的路要走。 这次会议由国家科技重大专项“较大规模集成电路制造装备及成套工艺”（核高基02专项）实施管理办公室组织召开，清华大学副校长薛其坤院士出席。 中外光刻机的巨大差距 光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃*六代EUV光刻机的研发。 目前，光刻机领域的****是荷兰ASML，并已经占据了高达80%的市场份额，垄断了高端光刻机市场——先进的EUV光刻机售价曾高达1亿美元一台，且**仅仅ASML能够生产。Intel、台积电、三星都是它的股东，重金供养ASML，并且有技术人员驻厂，Intel、三星的14nm光刻机都是买自ASML，格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自ASML。 相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸，处于技术良好的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大……国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。 这不仅使国内晶圆厂要耗费巨资购买设备，对产业发展和自主技术的成长也带来很大不利影响——ASML在向国内晶圆厂出售光刻机时有保留条款，那就是禁止用ASML出售给国内的光刻机给国内自主CPU做代工——只要中芯国际、华力微等晶圆厂采购的ASML光刻机，虽然不影响给ARM芯片做代工，但却不可能给龙芯、申威等自主CPU做代工、商业化量产。即便是用于科研和*领域的小批量生产，也存在一定风险——采用陶瓷加固封装、**的龙芯3A1500和在党政军市场使用的龙芯3A2000，只能是小批量生产，而且在宣传上 也只能含糊其辞的说明是境内流片……这很大程度上影响了自主技术和中国集成电路产业的发展。 光刻机工作原理和组成 光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。东莞蓝海ERT光谱共焦位移传感器将很好地解决光刻机的生产制造环节。**手机智能化普及度越来越高，随着3C产品外型设计的飞速更新，材料工艺的不断升级，近年来3C产品加工制造过程中的自动化测量越来越多在使用光谱共焦位移传感器。在手机后壳、中框段差，LOGO段差，摄像头段差，2D/3D屏表面轮廓等众多测量应用中，光谱共焦位移传感器发挥了其*特的优势。中国自动化测量市场把光谱共焦位移传感器定义为一种高精度可以解决众多高难度测量应用的新型传感器。