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光催化净化技术主要是利用光催化剂二氧化钛(TiO2)吸收外界辐射的光能,使其直接转变为化学能。当能量大于禁带宽度的光照射半导体时,光激发电子跃迁到导带,形成导带电子(e-),同时在价带留下空穴阶(h+)。由于半导体能带的不连续性,电子和空穴的寿命较长,它们能够在电场作用下或通过扩散的方式运动,与吸附在半导体催化剂粒子表面上的物质发生氧化还原反应,或者被表面晶格缺陷俘获。空穴和电子在催化剂粒子内部或表面也能直接复合,空穴能够同吸附在催化剂粒子表面的HO-或H2O发生作用生成自由基HO・,HO・是一种活性很高的粒子,能够无选择的氧化多种有机物并使之矿化。 uv光氧净化设备使用二氧化钛作为设备的催化剂,具有无毒、催化活性高、光化学性质稳定以及抗氧化能力强等优点,可通过贵金属及金属氧化物、金属离子掺杂、复合半导体、外加电场等方式来提高光催化降解的效率,光催化剂作用下的降解过程,它们的活性随锐钛矿型TiO2含量的增加而提高TiO2负载Pt后能将有机磷杀虫剂光催化降解的速率提4.5~6倍。 UV光氧净化器设备使用范围:喷漆车间、油墨印刷、喷涂车间、化工、医药、食品、印染、、造纸、酿造等生产过程中产生的有毒有害废气。橡胶、制药、鞋箱包、皮革及污水和垃圾处理等行业产生的工艺有机废气、恶臭和异味。