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铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。 铝靶材物理性质： 元素符号 Al靶材 元素符号 Al靶材 相对分子质量 26.98 蒸发潜热 11.4 原子体积 9.996*10-6 蒸汽压 660/10-8-10-9 晶型 Fcc面心立方 电导率 37.67 堆积密度 74% 电阻系数 +0.115 配位数 12 吸收光谱 0.20*10-24 晶格能 200*10-7 泊松比 0.35 密度 2.7 可压缩性 13.3mm2/MN 弹性模量 66.6Gpa 熔点 660.2 剪切模量 25.5Gpa 沸点 约2500 常用纯度 99.9%3N，99.99%4N，99.999%5N，99.9999%6N 铝靶用途：适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铝靶材的价格较低，所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。
