半导体产品清洗用超纯水设备 高纯水设备
价格：96800.00起
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关 键 词：半导体产品清洗用超纯水设备
行 业：仪器仪表 实验室仪器 纯化设备
发布时间：2020-04-29
edi超纯水系统特点：
1.产水水质高而稳定;
2.连续不间断制水，不因再生而停机;
3.无需化学药剂再生;
4.设想周到的堆栈式设计，占地面积小;
5.操作简单、安全;
6.运行费用及维修成本低;
7.无酸碱储备及运输费用;
8.全自动运行，无需专人看护。
edi超纯水系统应用领域 ：
1.电厂化学水处理;
2.电子、半导体、精密机械行业超纯水;
3.制药工业工艺用水;
4.食品、饮料、饮用水的制备;
5.海水、苦咸水的淡化;
6.精细化工、精尖学科用水;
7.其它行业所需的高纯水制备。
超纯水设备系统采用全自运控制，具有产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色环保、维护方便等优点，广泛应用于工业水处理等相关行业。
应用行业：新能源行业(光伏、微电子、太阳能、新材料)、电子(集成电路、显像管、线路板、电脑元件、电容器等)、医药、电力(核电、光电、火力发电等)、光学、半导体、单/多晶硅、表面处理、化工、电镀等相关行业。
超纯水设备规范标准：
1、工艺标准
(1)《钢制焊接常压容器 NB/T 47003.1—2009》
(2)《水处理设备 技术条件 JB/T 2932-1999》
(3)《机械设备安装工程施工及验收通用规范》GB50231-2009
2、电气安装标准
(1)GB50168-2006 《电气装置安装工程电缆线路施工及验收规范》
(2)GB50171-92《电气装置安装工程盘/柜及二次回路施工及验收规范》
(3)GB50169-2006《电气装置安装工程接地装置施工及验收规范》
超纯水设备工艺流程：
(1)预处理+双级反渗透+电去离子+抛光混床
(2)预处理+单级反渗透+电去离子
(3)预处理+单级反渗透+再生混床
纯水设备主要作用：
1、防止有机物污染。
2、防止胶体物及悬浮固体微粒堵塞。
3、防止氧化性物质对膜的氧化破坏;这样可保证反渗透装置稳定运行以及正常的使用寿命。
4、防止反渗透膜面结垢CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、铁、铝氧化物等在膜面沉积
工业超纯水设备工作原理
电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下，通过隔板的水中电介质离子发生定向移动，利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间，通常由阴膜，阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。
淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留；水中阴离子向正极方向迁移阴膜，被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水，而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。
3）控制：泵后用调节阀调节压力及进水量。
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