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价格:20000起
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一、真空退火炉用途 真空退火炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。 二、真空退火炉特点 1.微电脑控制,可编程序,30段升温曲线,全自动升温/降温 2.工作环境(抗干扰、1400℃时外壳温度≤30℃大大提高了工作环境) 3.加热元件分布炉膛两侧。 4.可以加多种气体及抽真空,炉顶及炉门水冷。 5.电炉正常使用温度:1400℃ 最高使用温度:1450 ℃ 6.升温(0—1400℃:35分钟到达;最快升温速率40度/min) 7.真空度 10的-6次方帕 三、真空退火炉参数 型号 炉膛尺寸(mm) (DxWxH) 功率 (KW) 最高温度 (℃) 额度温度 (℃) 加热元件 电压 (V) TDRG4.5/14 200x150x150 4 1400 1300 硅碳棒 220 TDRG12/14 300x200x200 7 1400 1300 硅碳棒 380 TDRG36/14 400x300x300 12 1400 1300 硅碳棒 380 TDRG80/14 500x400x400 18 1400 1300 硅碳棒 380 注:可根据用户要求另行设计制造,更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询!