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产品规格:Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40
产品数量:280 个
包装说明:木箱包装
关 键 词:钛靶材,钛靶块,溅射靶材,钛饼,钛块
发布时间:2025-02-06
钛 靶 一、牌号 国内牌号:TA1、TA2、TA7、TA9、TA10、TC11 。 美标牌号:GR1、GR2、GR7、GR12。 二、靶材的主要性能要求: (1)纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。 (2)杂质含量 靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。 (3)密度 为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。 (4)晶粒尺寸及晶粒尺寸分布 通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。 三、加工工艺 锻造、轧制。 四、表面 车光、倒角。表面清洁光滑,无起皮,气孔,裂纹等缺陷。 五、规格 Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40较常见,其他规格可按客户要求制作。 六、执行标准 国标:GB/T 16598,GB/T2965 。 美标:ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。