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关 键 词:PVD离子镀膜机
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发布时间:2012-06-18
中频磁控溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术,它优于直流磁控溅射镀膜的特点是 1.克服了阳极消失现象, 2.减弱或消除靶的异常弧光放电。因此,提高了溅射过程的工艺稳定性,同时,提高了介质膜的沉积速率数倍。 汇成公司研发了平面靶,圆柱靶,孪生靶,对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、mobile壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。