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SEF-J:绝缘刻线机 产品特点:龙门式结构,两维分离(或两维一体);半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器;伺服电机(或直线电机)驱动;两路或四路同步输出;自动跟踪定位;自动上下料(选配) 技术参数: 型号规格:SEF-J 有效加工幅面:1.1×1.4m(或635mm×1245mm) 最大刻线速度:800~1000mm/s 重复定位精度:±10μm 刻线直线度:±10μm / 1000 mm 刻线宽度:50~80μm 应用和市场:薄膜太阳电池的绝缘隔离线的刻划加工,将所有膜层一次性刻划干净,重新隔离形成独立绝缘的小块电池阵列。