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东莞市鑫源水处理设备有限公司
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三级EDI膜堆/EDI设备概念 “三级EDI”是本公司专为需要生产18~18.2MΩ.cm的**纯水用户而开发的较新发明的一种“阳阴混混”组合式EDI膜堆。即一级EDI的纯水室采用阳阴树脂分层填充,二级EDI的纯水室采用除SiO2型电子级混床树脂填充,三级EDI采用除TOC抛光树脂充填。 三级EDI膜堆的技术特点是复床式一级EDI功能相当于二级RO功能,可去除一级RO产水中的大部分离子;二级EDI对SiO2有较高的去除率,三级EDI对**碳TOC有较高的去除率,其终端产水电阻率可稳定达到18~18.2MΩ.cm,TOC<4ppb,SiO2<1ppb。 二级EDI膜堆的优点 ◎在原水含盐量高达500~1000ppm时,可采用一级RO+三级EDI**纯水工艺制取**纯水而不需要二级RO设备和抛光混床精提纯 设备,节约了抛光混床耗品费用,降低系统投资费用,其产水质量稳定可靠,产水电阻率18~18.2MΩ.cm; ◎在原水含盐量低于500ppm时,采用一级RO+三级EDI**纯水工艺制取**纯水,其预处理的反渗透膜元件使用寿命可延长1~2年,大大降低预处理RO膜更换的费用; ◎*酸碱再生,无污水排放,无耗品产生,电再生连续制水,保证全天候供水; 二级EDI膜堆技术参数 ◎在原水含盐量<1000ppm时,采用一级反渗透产水为三级EDI进水 ◎TDS:<30ppm ◎pH:6.0~8.0,三级EDI较佳工作的pH范围为7±0.5; ◎温度:5~35℃,较佳工作温度为25℃; ◎进水压力:≤4bar(60psi); ◎硬度(以CaCO3计):<0.5ppm; ◎**物(TOC):<0.5ppm; ◎氧化剂:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm; ◎变价金属:Fe<0.02ppm,Mn<0.04ppm; ◎H2S:<0.01ppm; ◎二氧化硅:<0.5ppm; ◎二氧化碳的总量:<10ppm; ◎进水电导率:<50μS/cm。