多元素光谱仪 ICP光谱分析仪测硅
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钢研纳克江苏检测技术研究院有限公司
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关 键 词：ICP光谱分析仪测硅
行 业：仪器仪表 分析仪器 元素分析仪器
发布时间：2024-03-14
Plasma 2000 技术特点
1. 优异的光学系统
2. 固态射频发生器，体积更加小巧
3. 流程自动化，状态及自动保护
4. 科研级检测器，较高的紫外**化效率
5. 强大分析谱线
6. 信息直观丰富
7. 多窗口多方法
8. 编辑功能强大
9. 智能谱图标定
10. 智能干扰矫正
钢研纳克：固态光源ICP，**国产单道扫描ICP进入固态光源时代
稳健的全固态光源ICP光谱仪 钢研纳克 Plasma 1500
全固态射频发生器，体积小、效率高，全自动负载匹配，速度快、精度高，全固态光源ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性的测试，具有优异的长期稳定性。
垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。
具有低功率待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
实时仪器运行参数，高性能以太网及CAN工业现场总线，**通讯可靠。
钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数
1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm
2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）
3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶体管固态射频发生器，小巧
5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限
6. 自动匹配调节
7. 全组装式炬管，降低了维护成本
8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有快速清洗功能
9. 实验数据稳定性良好：重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD ≤2.0%（大于3小时）
双向观测Plasma3000 钢研纳克ICP光谱仪
Plasma3000型双向观测全谱电感耦合等离子体光谱仪是钢研纳克在多年原子光谱领域的积淀下，听取分析检测领域各界意见，专为分析检测实验室打造的更全面更稳定更科学的多元素无机分析设备。通过在Plasma2000的基础上进行大刀阔斧的改造升级，采用***技术，使得Plas0型ICP-OES更小巧，更稳定，更，标志着国产全谱ICP迈入市场。Plasma3000拥有：
1、 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，径向和轴向观测接口设计，具有强健的检测能力。
2、 垂直火炬，双向观测，冷锥消除尾焰，地降低自吸效应及电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更低的背景，保证了准确的测量结果。
3、 稳定的自激式固态射频发生器，体积小巧，匹配速度快，确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。
4、 高速面阵CCD采集技术，单次曝光获取全部谱线信息，真正实现“全谱直读”。
5、 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。
可广泛应用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。
