深圳龙岗区冲压模具镀钛 td处理
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行 业：加工 模具加工
发布时间：2024-01-05
纳米粉体材料具有以下的优良性能：小的粒径、大的比表面积和高的化学性能，可以显著降低材料的烧结温度、节能能源；使陶瓷材料的组成结构致密化、均匀化，改善陶瓷材料的性能，提高其使用可靠性；可以从纳米材料的结构层次（l～100nm）上控制材料的成分和结构，有利于充分发挥陶瓷材料的潜在性能。
不论回火温度如何，我司在镀膜过程中只能选择比热处理回火温度更低的温度处理，才能保证工件硬度不下降。 一般的回火温度有：a． 高温：500℃以上b． 中温：350℃左右c． 低温：200℃左右※注：实际上，热处理厂可以根据不同的材料、不同的要求设计出不同温度参数的回火工艺，并不单纯是上述几个数值。 我司镀膜的温度 ①根据不同的要求，我司的镀膜温度可以作三种选择：a． 高温：500℃b． 中温：320℃c． 低温：180℃
复杂的形状都可以处理：如深孔、内管、细缝等。 CVD的优点：①镀膜温度太高，对基材和反应设备的耐热性要求很高，很多工件难以承受； ②高温使基材尺寸变化和变形严重，故适于精密度高的工件； ③对于要求工件局部镀膜，难以实现； ④活泼性气体源的使用，制程中有**、毒性气体泄漏等隐患，且对环境有污染。 TD简介（Thermal Diffusion Coating Process——热扩散法碳化物覆层处理）（1）在空气炉或盐槽中放入一个耐热的坩埚，将硼砂放入坩埚加热熔化至800~1200℃，然后加入相应的碳化物形成粉末（如钛、钡、铌、铬），再将钢或硬质合金工件放入坩埚中浸渍保温1~2小时，加入元素将扩散至工件表面并与钢中的碳发生反应形成碳化物层（如：VC—碳化钒；CrC—碳化铬），所得到的碳化物层具有很高的硬度和耐磨性。（2）TD*主要适合于以下铬钢的工件。
由于陶瓷粉料的颗粒大小决定了陶瓷材料的微观结构和宏观性能。如果粉料的颗粒堆积均匀，烧成收缩一致且晶粒均匀长大，那么颗粒越小产生的缺陷越小，所制备的材料的强度就相应越高，这就可能出现一些大颗粒材料所不具备的特性能。
包装：任何工件在交我司做涂层的运输途中，均需要有包装，且包装必须能保证工件的安全。 对于锋利刃具，如铣刀、丝攻、铰刀等，建议采用每只产品之间都有区隔的包装方式。 对于较重的大型件，如果采用快递或货运，一定要有足够强度的包装箱，以保证运输途中不被损伤。 PVD涂层与其他表面处理的比较 CVD简介（Chemical Vapor Deposition——化学气相沉积）（1）将各种化学反应物质：如四氯化钛（TiCl4）和甲烷（CH4）等含碳气体（或其它碳氮气体）蒸气等通入反应炉体内，在高温（900~1200℃）状态下，TiCl4中的钛（Ti）和碳氢化合物中的碳（C）在模具表面进行化学反应，从而生成一层金属化合物涂层碳化钛（TiC）。利用不同的反应物，可得到不同的薄膜，如TiN、Ti（CN）、CrC等等。 CVD的优点： ①镀膜与基材的附着性优良；
镀层性能不同于基体金属，具有新的特征。根据镀层的功能分为防护性镀层，装饰性镀层及其它功能性镀层。 电镀时，镀层金属或其他不溶性材料做阳，待镀的工件做阴，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。能增强金属的抗腐蚀性（镀层金属多采用耐腐蚀的金属）、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。
