价格：43800起
郑州科探仪器设备有限公司
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一、产品原理介绍： （1）半导体清洗 光刻胶清洗机KT-S2DQX-C型等离子清洗机属于13.56MHz的射频电源清洗。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。 （2）该清洗机内置高纯石英仓体，有效容积为500ml，结构为国际上的通用的真空石英法兰密封结构。采用了新型的外观结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。 （3）真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验样品清洗和教学。 二、半导体清洗 光刻胶清洗机的优点： 1.全自动控制使用方便，更长的制程执行时间 2.操作简易和灵活标准的平台安装 3.快速实现客户定制高效率——低发热量 4.使用简易，节省成本多功能前面板 5.高质量、快速的服务和支持直观的液晶显示操作菜单 6.高纯石英腔体减少样品污染可定时功能，时间更精准 7.射频屏蔽安全可靠*紧急停止，应对各种突发情况 637939248355217359113.jpg 三、智能控制滚筒等离子清洗机KT-G1DQX技术参数： 供电电源 AC220V（AC110V可选) 工作电流 整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵) 射频电源功率 150W 射频频率 13.56MHz 频率偏移量 ＜0.2MHz 特性阻抗 50欧姆，手动匹配 耦合方式 电容耦合 真空度 ≤50Pa 腔体材质 高纯石英 腔体容积 Φ100mmX200mm 旋转速度 20转/分钟 气体流量 0—300ml/min 过程控制 手动控制 清洗时间 手0-999秒 外形尺寸 615X390X560mm 重量 56Kg 真空室温度 小于65°C 冷却方式 强制风冷 标配 KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。