价格：38600起
郑州科探仪器设备有限公司
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plasma离子清洗机射频电源， 等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的较大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 637494414167286266903.png plasma离子清洗机射频电源 供电电源 AC220V（AC110V可选) 工作电流 整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵) 射频电源功率 150W 射频频率 13.56MHz 频率偏移量 ＜0.2MHz 特性阻抗 50欧姆，手动匹配 耦合方式 电容耦合 真空度 ≤50Pa 腔体材质 高纯石英 腔体容积 2L(内径110MMX深度220MM) 观察窗内径 Φ50 气体流量 0—50ml/min（其他量程可选） 过程控制 过程手动控制 清洗时间 手动开关 开盖方式 铰链侧开式法兰 外形尺寸 450x450x360mm 重量 23Kg 真空室温度 小于65°C 冷却方式 强制风冷 标配 KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。