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关 键 词：IM4000
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发布时间：2023-05-29
日立高新离子研磨装置IM4000 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。 平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（最大加工率：硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。 特点 混合模式：两种研磨配置 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察 平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性 高效：提高加工效率，与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(最大加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%) 可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型
