本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：不需要

2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

3、气：如作为CVD系统使用，需自备气源（标准带有宝塔接头，可自费改制成为双卡套接头）

4、工作台：尺寸1200mm×600mm×700mm，承重300kg以上

5、通风装置：需要

技术参数

   1、电源：单相AC 220V   50Hz/60Hz  4KW

   2、炉管：99.8%高纯度氧化铝管，内径Ø74mm，外径Ø80mm，长850mm

   3、加热元件：4根1800℃级U型硅钼棒

   4、加热区域：200mm

   5、工作温度：1700℃（<1h），连续工作800℃-1650℃

   6、升降温速率：1200℃以上时为5℃/min，1200℃以下时为10℃/min

   7、控温精度：±1℃

   8、真空度：机械泵50mtorr，涡轮分子泵10-5torr

产品规格

　尺寸：1080mm×650mm×1500mm；重量：190kg

标准配件

1

　氧化铝管

1根

2

　氧化铝管堵

4个

3

　不锈钢法兰

1套

4

　热电偶

1个

可选配件

   1、PC控制软件

   2、不锈钢卡套接头

   3、分子泵

注意事项

   1、在释放样品前，必须先向炉管内充入5psi氩气，再打开闸板阀。

   2、硅钼棒是在高温氧化性气氛下使用的。在高温氧化气氛中，其表面生成一层光亮致密的SiO2玻璃膜，能够保护硅

　　 钼棒内层不再氧化。因此，不得在400℃-700℃之间使用，否则将会低温氧化致使毁坏。

   3、气氛气体输入端必须装配减压阀。在连续通气时，输出压设置在3psi以下。若压力水平**过3psi将会对炉膛造成

　　 不可逆的损害。

   4、如若炉内是正压条件，且未开启放气阀时，切勿进行加热。在加热过程中要实时观测真空计，一旦炉内压力接近

         3psi，请立即打开放气阀，避免不可预见的损坏。

   5、气体的流量应限于<200SCCM（200ml/min）。

   6、氧化铝管的真空极限定义为：在管内温度达到1500℃时为止，皆视为安全真空压力范围。