科晶OTF-1200X-50-DSL 定向CVD生长炉实验型设备

1.5KW

AC220V，单相

1200℃（≤1小时）

1100℃

 加热区：200mm(单温区）
通过管堵位置和炉体移动可形成想得到的温度梯度
 

掺钼铁铬铝（表面涂有高温氧化锆涂层，可延长其使用寿命）

 高纯石英管
 尺寸：50 mm OD x 46mm ID x 1000 mm L
 仪器加热前，必须放入管堵，以防止热量辐射影响法兰的密封性

 采用PID方式调节温度，可设置30段升温、降温和保温程序
设置有温度过高和断偶保护系统
控温精度：±1℃
可选测PC控制软件，将升温程序和温度曲线导入到电脑中
 

触摸屏控制
炉体移动有手动和自动控制两种控制状态，在手动状态和自动状态下均可设定左右移动的速度，但只有在自动状态下才能设定左右移动的次数。 含蜂鸣报警器，当炉体触碰到限位开关就会产生报警，并切断控制电路，使炉体停止移动。
 可显示高温炉内的炉温，与之通讯

 仪器中配有一套不锈钢密封法兰（上面已安装不锈钢针阀和机械压力表
● 法兰上有一Φ6.35的铠装孔，可将热电偶插入到炉管中，更准确地测量样品的实际温度
 

可选配石英气体喷嘴，将反应气体与缓冲清洗气体分开通入，可有效减少副反应发生，实现高端CVD工艺，如局部控制前体浓度化学气相沉积工艺（ALC CVD）或单晶二维材料薄膜的生长工艺等。
 

● 10E-5 torr （用分子泵）
● 10E-2 torr （用直联式机械泵）
 

1200mm

● 315 x 300 x 380  mm (炉体)
● 1200 x 400 x 530 mm ( 整个外形)
● 360 x 180 x 300 mm（电器控制柜）

100Kg

CE certified