价格：35600起
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高温真空镀膜仪膜晶控片控制# 【点击头像联系我们】 小型蒸镀仪 KT-Z1650CVD是一款小型台式蒸发功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和**物薄膜。 小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD 是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。 空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。 （3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远 低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。 我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的玻璃真空室结构相得益彰。两组/三组蒸发源可兼容金属、**物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，特别适合太阳能电池、**EL、LED显示管研究与开发领域。 主要特点/优势： ★ 玻璃钟罩真空腔室，较直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察； ★ 复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）； ★ 两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与**材料的蒸发源设计； ★ 专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出； ★ 可定制一体化高精度刻蚀掩膜板； ★ 衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm； ★ 可调速旋转靶台使薄膜更均匀 ★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、 ★ 7寸显示器定时**调节电流，达到控制功率效果 ★ 具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果 ★ 配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果 高温蒸镀仪，KT-Z1650CVD，石英＋不锈钢腔体，触摸屏控制，工艺储存功能，自动电控挡板保护样品 在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到较大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。